AR-N 7520series Negative Electron Beam Resist

High-resolution EBL resists for mix & match in semiconductor process

產品簡介:

AR-N 7520系列, 為負型電子束微影阻劑 (negative tone EBL resist). 可以電子束及紫外光曝光(deep UV, I line), 適合於半導體混搭製程(mix & match). 產品系列目前有:

產品包裝:

目前有新品 AR-N 7520 new, 如有需要舊品(AR-N 7520)需另行安排升產.

250 ml /瓶

1 L /瓶

其它包裝可依客戶需求增加.

出貨: ☑️   2 - 4週. 德國運出

     🔲     1週. 國內庫存