Medusa 82 UV silsesquioxane based Electron Beam Resist

High-resolution, etch-stable, negative tone, for EBL EUV & DUV, HSQ compatible

產品簡介:

AR-P 8250系列, 實驗代號Medusa 82 UV, 為矽倍半氧烷類(silsesquioxane)負型電子束微影阻劑. 可於電子束(EBL), 極紫外線(EUV)及深紫外線(DUV)下曝光. 與傳統HSQ resist相較, Medusa 82 UV敏感度高,具有較佳製程穩定度, 較容易去除及較長的使用壽命等優點.

產品系列目前有:

產品包裝:

100 ml /

250 ml /

1       L /

其它包裝可依客戶需求增加.

出貨: ☑️   2 - 4週. 德國運出

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