Negative e-Beam Resist AR-N 7520-new series
High-resolution EBL resists for mix & match in semiconductor process
產品簡介:
AR-N 7520-new系列, 為負型電子束微影阻劑 (negative tone EBL resist). 可以電子束及紫外線(deep UV, I line)曝光, 適合於半導體混搭製程(mix & match). 產品系列目前有:
產品包裝:
250 ml /瓶
1 L /瓶
其它包裝可依客戶需求增加.
出貨: ☑️ 2 - 4週. 德國運出
🔲 1週. 國內庫存
Product quick guide 產品快速導覽▶️ EBL resist 電子束微影阻劑▶️ tSPL resist 熱掃描微影阻劑▶️ Conductive coating 導電塗佈▶️ Photoresist 光阻劑▶️ Protective resist 保護塗層▶️ Bottom resist 底層阻劑▶️ Process chemicals 製程化學品