Negative e-Beam Resist AR-N 7520-new series

High-resolution EBL resists for mix & match in semiconductor process


產品簡介:

AR-N 7520-new系列, 為負型電子束微影阻劑 (negative tone EBL resist). 可以電子束及紫外(deep UV, I line)曝光, 適合於半導體混搭製程(mix & match). 產品系列目前有:

產品包裝:

250 ml /瓶

1       L /瓶

其它包裝可依客戶需求增加.

出貨: ☑️   2 - 4週. 德國運出

     🔲       1週. 國內庫存