Medusa 82 silsesquioxane based e-Beam Resist

High-resolution, etch-stable, negative tone, HSQ compatible resist


產品簡介:

AR-P 8200系列, 實驗代號Medusa 82, 為矽倍半氧烷類(silsesquioxane)負型電子束微影阻劑 (negative tone EBL resist). 與傳統HSQ resist相較, Medusa 82具有較佳製程穩定度, 較容易去除及較長的使用壽命等優點. 產品系列目前有:

產品包裝:

100 ml /

250 ml /

1       L /

其它包裝可依客戶需求增加.

出貨: ☑️   2 - 4 週. 徳國運出

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