Positive PMMA e-Beam Resist AR-P 630– 670 series
PMMA resist 50K – 950K for the production of semiconductor and masks
產品概述:
AR-P 630 - 670 series 是一系列不同溶劑,不同分子量的PMMA正型阻劑組合.適合各種電子束微影應用.
此系列產品過慮規格為0.2um.
PMMA電子束微影阻劑應用於光罩製作, 積體電路等高精密圖案製程(multi-layer and planarization), 對玻璃, 矽晶元,金屬等,有良好的接著性.
PMMA阻劑,產品分子量50k比950k,敏感性(sensitivity)高約20%.
顯影後的阻劑結構在120℃能有良好的安定性.(thermal-stability).
系列產品,最低固型份含量, 可降低膜厚到30nm. 適合奈米等級微影.
產品包裝:
250 ml /瓶
1 L/瓶
其它包裝可依客戶需求增加.
出貨: ☑️ 2 - 4週. 德國運出
🔲 1週. 國內庫存
▶️ PMMA resist brief 產品簡介
▶️ structure & resolution 結構與解析度
Product quick guide 產品快速導覽▶️ EBL resist 電子束微影阻劑▶️ tSPL resist 熱掃描微影阻劑▶️ Conductive coating 導電塗佈▶️ Photoresist 光阻劑▶️ Protective resist 保護塗層▶️ Bottom resist 底層阻劑▶️ Process chemicals 製程化學品