Medusa 82 silsesquioxane based e-Beam Resist
High-resolution, etch-stable, negative tone, HSQ compatible resist
Medusa 82 silsesquioxane based e-Beam Resist
High-resolution, etch-stable, negative tone, HSQ compatible resist
產品簡介:
AR-P 8200系列, 實驗代號Medusa 82, 為矽倍半氧烷類(silsesquioxane)負型電子束微影阻劑 (negative tone EBL resist). 與傳統HSQ resist相較, Medusa 82具有較佳製程穩定度, 較容易去除及較長的使用壽命等優點. 產品系列目前有:
產品包裝:
100 ml /瓶
250 ml /瓶
1 L /瓶
其它包裝可依客戶需求增加.
出貨: ☑️ 2 - 4 週. 徳國運出
🔲 1 週. 國內庫存
▶️ Medusa 82 (SXAR-N 8200) data 產品資料
▶️ Brief 產品簡介
▶️ Structure & Resolution 結構與解析度