Medusa 82 UV silsesquioxane based Electron Beam Resist
High-resolution, etch-stable, negative tone, for EBL EUV & DUV, HSQ compatible
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產品簡介:
AR-P 8250系列, 實驗代號Medusa 82 UV, 為矽倍半氧烷類(silsesquioxane)負型電子束微影阻劑. 可於電子束(EBL), 極紫外線(EUV)及深紫外線(DUV)下曝光. 與傳統HSQ resist相較, Medusa 82 UV敏感度高,具有較佳製程穩定度, 較容易去除及較長的使用壽命等優點.
產品系列目前有:
產品包裝:
100 ml /瓶
250 ml /瓶
1 L /瓶
其它包裝可依客戶需求增加.
出貨: ☑️ 2 - 4週. 德國運出
🔲 1 週. 國內庫存
▶️ Medusa 82 (SXAR-N 8200) data 產品資料
▶️ Medusa 82 UV (SXAR-N 8250) 產品資料
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