Positive PMMA e-Beam Resist AR-P 630– 670 series

PMMA resist 50K – 950K for the production of semiconductor and masks

產品概述:

AR-P 630 - 670 series 是一系列不同溶劑,不同分子量的PMMA正型阻劑組合.適合各種電子束微影應用. 

此系列產品過慮規格為0.2um.

PMMA電子束微影阻劑應用於光罩製作, 積體電路等高精密圖案製程(multi-layer and planarization), 對玻璃, 矽晶元,金屬等,有良好的接著性.

PMMA阻劑,產品分子量50k比950k,敏感性(sensitivity)高約20%.

顯影後的阻劑結構在120℃能有良好的安定性.(thermal-stability).

系列產品,最低固型份含量, 可降低膜厚到30nm. 適合奈米等級微影.