Protective Coatings SXAR-PC 5000/41

KOH & HF resistant resist for wafer backside protection

SXAR-PC 5000/41 產品說明

SXAR-PC 5000/41產品為保護型塗佈,耐氫氟酸/氫氧化鉀,適合晶背保護.

產品編號:

SXAR-PC 5000/41

產品包裝:   

   250 ml/ /瓶

1,000 ml/ /瓶

出貨: ☑️   2 - 4 週. 徳國運出

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Characterization 產品特性

• not light-sensitive > 300 nm, no yellow light required

對波長> 300nm無反應,無需於黃光區作業

• protection of wafer backside when etching the front side up to 80℃; e.g., with 40% caustic potash, 50% hydrofluoric acid, BOE

晶圓蝕刻時做為晶背保護塗佈,例如:40% 氫氧化鉀,氫氟酸,氫氟酸緩衝液等80℃的蝕刻製程.

• in two-layer system structurable with AR-P 3250 or AR-N 4400-05/10; plasma etching resistant.

與正負型光阻(AR-P 3250或AR-N 4400-05/10)雙層製程可製作保護塗層塗案. 保護層耐電漿蝕刻.

• high-melting modified hydrocarbons

成份含高熔點改良的碳氫化合物

• solvent ethylbenzene

使用乙苯溶劑