AR-N 7520series Negative Electron Beam Resist
High-resolution EBL resists for mix & match in semiconductor process
產品簡介:
AR-N 7520系列, 為負型電子束微影阻劑 (negative tone EBL resist). 可以電子束及紫外光曝光(deep UV, I line), 適合於半導體混搭製程(mix & match). 產品系列目前有:
Embedded Files
產品包裝:
目前有新品 AR-N 7520 new, 如有需要舊品(AR-N 7520)需另行安排升產.
250 ml /瓶
1 L /瓶
其它包裝可依客戶需求增加.
出貨: ☑️ 2 - 4週. 德國運出
🔲 1週. 國內庫存
Report abuse