AR-P 7400 for mix & match

產品概述:

AR-P 7400.23是適用於電子束微影的正形阻劑. 也可於紫外光(UV, 波長310 - 450 nm)曝光.

產品具有高對比性能(>3), 敏感度中等, 及良好的製程與電漿蝕刻穩定度.

可用於電子束與紫外光混合匹配製程(mix & match).

亦可直接用於紫外線(UV exposure, 310-450 nm)曝光.

產品主要成份為, 酚醛樹酯, NQD, 架橋單體及PGMEA較安全溶劑.

產品包裝:

250 ml /瓶

1 L/瓶

2.5 L/瓶

其它包裝可依客戶需求增加.

出貨: ☑️ 2 - 4週. 徳國運出

🔲 1 週. 國內庫存