AR-P 7400 for mix & match
產品概述:
AR-P 7400.23是適用於電子束微影的正形阻劑. 也可於紫外光(UV, 波長310 - 450 nm)曝光.
產品具有高對比性能(>3), 敏感度中等, 及良好的製程與電漿蝕刻穩定度.
可用於電子束與紫外光混合匹配製程(mix & match).
亦可直接用於紫外線(UV exposure, 310-450 nm)曝光.
產品主要成份為, 酚醛樹酯, NQD, 架橋單體及PGMEA較安全溶劑.
產品包裝:
250 ml /瓶
1 L/瓶
2.5 L/瓶
其它包裝可依客戶需求增加.
出貨: ☑️ 2 - 4週. 徳國運出
🔲 1 週. 國內庫存