features

AR-P 630-670系列-PMMA電子束微影阻劑

產品特點:

    • 電子束, 深紫外線
    • 對玻璃,矽, 金屬接著性良好
    • 分子量50k阻劑有高約20%的敏感性(相較於分子量950k阻劑)
    • 適用於積體電路及平坦化製程
    • 高解析度, 高對比
    • 產品組合是不同分子量PMMA聚合物搭配不同溶劑系統
      • AR-P 631-671系列, 溶劑是chlorobenzene, 閃火點 28℃
      • AR-P 632-672系列, 溶劑是較安全的 anisole, 閃火點 44℃
      • AR-P 639-672系列, 溶劑是較安全的 ethyl lactate, 閃火點 ℃

AR-P 630-670 PMMA resist

features:

    • e-beam, deep UV (248 nm).
    • very good adhesion to glass, silicon and metals.
    • 50K 20 % more sensitive than 950K
    • for planarization and multi-layer processes.
    • highest resolution, high contrast.
    • poly(methyl methacrylate) with different molecular weights.
      • AR-P 631-671 solvent chlorobenzene, flash p. 28 °C.
      • AR-P 632-672 safer solvent anisole, flash p. 44 °C.
      • AR-P 639-679 safer solvent ethyl lactate, flash p. 36 °C.