AR-P 6200 series highest resolution

產品概述:

AR-P 6200 電子束微影阻劑系列產品有:

AR-P 6200.04

AR-P 6200.09

AR-P 6200.13

AR-P 6200.18

產品是正型阻劑,解析度可達10nm以下(最佳 6nm). 調整顯影劑製程, 可得較高的敏感性.

由於製程穩定高, 耐電漿蝕刻(plasma etching), 在lift-off應用上,適合10nm的結構.

加上很高的對比(>15), 膜厚180nm, 解析度可達10nm, 深寬比達到18.

使用適合的顯影劑, 敏感度可提升至劑量10 uC/cm² (顯影劑X AR-600-54/8). 或是取得更高的解析度(顯影劑X AR 600-54/6).

AR-P 6200系列 主成份:

共聚物 poly(α-methylstyrene-co-methyl chloroacrylate)

acid generator

anisole solvent

產品包裝:

250 ml /瓶

1 L/瓶

2.5 L/瓶

其它包裝可依客戶需求增加.

出貨: ☑️ 2 - 3週. 徳國運出

🔲 1 週. 國內庫存