AR-P 610 series copolymer resist

產品概述:

AR-P 610 series 已發展至AR-P 617系列版本, 系列產品有:

AR-P 617.03

AR-P 617.06

AR-P 617.08

高分子是PMMA與MA共聚物 poly(MMA-co-MA, MA 33%), 使用溶劑為PGME.

AR-P 617是正型阻劑,適合各種電子束微影製程, 應用於光罩製作,積體電路等高精密圖案製程(multilayer & planarisation),對玻璃, 矽晶元,金屬等,有良好的接著性.

此系列產品過慮規格為0.2um.

由於共聚物及組合成份的化學特性, 其敏感性(sensitivity)是PMMA阻劑的3-4倍. 同時其對比性(contrast)也優於PMMA阻劑.

顯影後的阻劑結構在140℃能有良好的安定性.(thermal-stability).

系列產品,最低固型份含量, 可降低膜厚到30nm. 適合奈米等級微影.

產品包裝:

250 ml /瓶

1 L/瓶

2.5 L/瓶

其它包裝可依客戶需求增加.

出貨: ☑️ 2 - 4週. 徳國運出

🔲 1 週. 國內庫存